Outils de mesure et de contrôle des dispositifs 5G
Analyse rapide des défauts
Analyse de wafers utilisés dans la conception de dispositifs à haute fréquence
Enjeux relatifs à l’analyse de wafers de semi-conducteurs
La présence de défauts sur les wafers est généralement contrôlée à l’aide de microscopes métallographiques. Un problème couramment rencontré est qu’il est facile de passer à côté d’un défaut lorsqu’on passe à un objectif à plus fort grossissement pour voir l’échantillon de plus près.
Imagerie polyvalente pour l’analyse rapide de wafers
Le microscope numérique DSX1000 permet de changer de mode d’observation (par exemple, de passer en contraste interférentiel) d’une simple pression sur un bouton. De plus, le zoom optique du microscope permet une transition en douceur d’une imagerie à l’échelle macroscopique vers une imagerie à l’échelle microscopique afin que vous ne perdiez de vue aucun défaut.
Observation de wafers en contraste interférentiel (CID) :
Méthode d’observation permettant de détecter la présence d’irrégularités, de corps étrangers et de rayures à l’échelle nanométrique
Observation de résidus de résine sur matériaux semi-conducteurs
Enjeux relatifs à l’inspection au microscope optique
Même lorsqu’un microscope optique est utilisé, des résidus de résine peuvent passer inaperçus. Il est important de choisir un microscope ayant les bonnes caractéristiques pour cette application.
Détection facile des résidus de résine
Le microscope métallurgique droit BX53M étant compatible avec une observation en fluorescence, il permet de détecter facilement les résidus de résine organiques ayant des propriétés électroluminescentes. Il est possible de distinguer les résidus de résine des autres contaminants puisque leurs caractéristiques d’émission sont différentes.
Mode d’observation MIX (fluorescence et champ sombre) : Résine présente sur un motif de circuit intégré
Mode d’observation MIX (fluorescence et champ sombre) : Résidu de résine photosensible sur un échantillon de wafer
Observation de l’état de moulage des guides d’ondes utilisés dans les communications optiques
Enjeux relatifs aux contrôles effectués à l’aide d’un microscope numérique ou de mesure
Il est possible d’observer des guides d’ondes optiques à l’aide d’un microscope de mesure à lumière transmise ou d’un microscope numérique classique. Toutefois, l’image observée sera généralement floue ou imprécise.
Observation claire de l’état du moulage
Lorsque le microscope métallographique droit BX53M est utilisé conjointement avec la caméra pour microscope numérique DP75, ses performances optiques élevées et sa fonction d’observation en contraste interférentiel vous permettent d’observer l’état de moulage d’un guide d’ondes optique et d’acquérir des images haute résolution.
