Mikroskoplösungen für den Fertigungsprozess von Leiterplatten
Herstellung des Substrats
Es wird ein Substrat aus Glasfasern und Epoxidharz hergestellt und dann mit Kupferfolie überzogen. Die Oberflächenrauheit der Kupferfolie muss sorgfältig geprüft werden, da sie die Qualität der Leiterplatte beeinflusst.
Analyse der Oberfläche des Kupfersubstrats
Kleinste Fehler auf der Oberfläche beeinträchtigen die Qualität des Substrats. Prüfer müssen die Größe von winzigen Defekten (Mikroebene) auf dem Kupfersubstrat erkennen und messen.
Unsere Lösung
Unser DSX1000 Digitalmikroskop kann 3D-Bilder liefern, die eine Analyse des Oberflächenzustands des Substrats erleichtern. Das Mikroskop kann zudem die Breite und Tiefe von winzigen Defekten messen.
Oberflächenanalyse des Substrats
Anwendungsbeispiele
Konfokales OLS5000 Laser-Mikroskop von Olympus zur Messung der Oberflächenrauheit von Leiterplatten
Messung der Oberflächenrauheit von Elektrodenkollektoren für Lithium-Ionen-Batterien
Analyse der Oberfläche des Kupfersubstrats
Eine raue Kupfersubstratoberfläche verschlechtert die Qualität der Laminierung, daher ist die Messung der Oberflächenrauheit auf dem Kupfersubstrat entscheidend für die Qualität der Leiterplatten. Ein Rauheitsmessgerät mit Taster kann nicht verwendet werden, da dieser Defekte auf dem Kupfersubstrat erzeugen würde.
Unsere Lösung
Unsere Laser-Scanning-Mikroskope der OLS-Serie ermöglichen die berührungslose Rauheitsmessung einer Kupfersubstratoberfläche. Das Gerät führt Messungen ohne Beschädigung der Oberfläche durch und kann aufgrund der hohen lateralen Auflösung Daten einer rauen Oberfläche genauer erfassen als ein Weißlichtinterferometer.
Oberflächenanalyse des Substrats
Anwendungsbeispiele
Konfokales OLS5000 Laser-Mikroskop von Olympus zur Messung der Oberflächenrauheit von Leiterplatten